光刻胶
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面...
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查看全部 500 份 →喷刻机的改进设想
针对喷刻机定位不稳定问题，提供可直接用于生产环境的改进方案。优化了喷绘与切割的对位逻辑，提升二次开机定位一致性，扩大有效喷刻范围至0.5米以上，适用于工业自动化场景。
2026-03-18
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