光刻胶

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面...

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难得一见的日本积水导热胶技术资料，涵盖金属基材应用中的关键性能与工艺细节，整理汇总的导热材料核心参数与使用指南，适合电子散热与材料工程领域参考。

2026-02-23 2 光刻胶

常见的塑胶材质--PTFE的线膨胀系数为钢的10~20倍，比多数塑料大，其线膨胀系数随着温度的变化而发生很不规律的变化。在应用PTFE时，如果对这方面性能注意不够，很容易造成损失。

2019-01-15 2 光刻胶