光刻胶
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面...
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摘 要: 研究了1 W 级大功率白光发光二极管(L ED) 发光效率随功率变化的关系。实验结 果表明,功率在0～0. 11 W 的范围里,发光效率随功率迅速增加;功率达到0. 11 W 时,发光效率为 15. 6 lm/ W;当功率大...
2025-06-09
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