光刻胶

光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面...

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主要功能:可以把图片的每个点阵像素转换坐标和灰度数据发给单片机,单片机根据不同的灰度值控制激光实现灰度打印!可以把图片经过抖动算法处理后再发给单片机。这种模式雕刻速度非常快!不懂可以百度【图像抖动算法】。可以把图片转换成G代码发送给单片机速...

2022-06-14 8 光刻胶

建立了光激、光拾自谐振多晶硅微机械传感器的多层膜系模型, 利用该模型对传感器的光学特性进行了理论分析, 并对传感器谐振微梁厚度和空腔高度进行了优化1关键词 自谐振; 菲涅耳系数矩阵; 光电激励

2024-03-17 6 光刻胶

根据传输点模数的不同,光纤可分为单模光纤和多模光纤。所谓"模"是指以一定角速度进入光纤的一束光。单模光纤采用固体激光器做光源,多模光纤则采用发光二极管做光源。多模光纤允许多束光在光纤中同时传播,从而形成模分散(因为每一个...

2013-10-30 98 光刻胶