光刻胶

光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面...

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光学滤光片通过精密镀膜技术实现对特定波长光线的选择性透过,广泛应用于成像系统中以提升图像质量与性能。工程师在设计光学系统时必备的原理参考。

2026-01-13 1 光刻胶

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2023-09-11 1 光刻胶