光刻胶
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面...
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光刻胶 热门资料
查看全部 500 份 →基于Arduino单片机控制的自动点胶机控制系统设计
介绍了自动点胶机的控制系统设计,以Arduino单片机为控制器,按工艺要求及操作习惯设计操作面板和控制电路,编制调试单片机控制程序实现步进电机、直线电机、气缸等执行机构动作的自动控制。基于Arduino单片机控制的自动点胶机控制系统为自动机...
2023-10-13
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纳米多孔气凝胶材料在催化和吸附领域的应用
采用溶胶－凝胶法和超临界干燥工艺制备而成的气凝胶是一种新型的多孔非晶固态材料，具有独特的纳米多孔网络结构以及极低的密度、高比表面积和高孔隙率等特性，蕴藏着广阔的应用前景。本文通过对气凝胶材料结构
2024-05-11
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基于ZPETC的雕刻机直流伺服控制系统设计.rar
在分析现有的雕刻机数控系统优缺点基础上，结合高速数控技术的发展，提出了基于高性能DSP开发高性价比的雕刻机直流伺服控制系统的总体设计方案。围绕系统的总体设计方案，在插补算法研究方面，通过小线段高速加工速度衔接的递归数学模型的建立和速度轮廓曲...
2013-04-24
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2023-08-30
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