光刻胶

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面...

资源总数
500

光刻胶 热门资料

查看全部 500 份 →

　　为了提高PCB板制作的效率，改变传统的化学腐蚀制板工艺，使用机械仿形铣制作电路板的方法，设计了以ATMEGA16单片机为核心部件的PCB板雕刻机控制系统。其中包括PCB雕刻机的基本功能、主要硬件电路设计和软件的实现流程，并给出了相关设计...

2013-10-17 92 光刻胶

为了提高PCB板制作的效率，改变传统的化学腐蚀制板工艺，使用机械仿形铣制作电路板的方法，设计了以ATMEGA16单片机为核心部件的PCB板雕刻机控制系统。其中包括PCB雕刻机的基本功能、主要硬件电路设计和软件的实现流程，并给出了相关设计电路...

2024-05-03 10 光刻胶

由于现场可编程门阵列FPGA具有可多次重复编程的特点，它赋予了使用者很大的设计灵活性。同时随着FPGA容量的迅速提高和其内嵌的硬核处理器性能的不断提升，FPGA成为嵌入式系统设计和应用的良好的可编程逻辑平台。但是，常规...

2024-05-07 10 光刻胶