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集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。

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光测原理和技术-263页-8.1M.pdf
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真空蚀刻技术.mht
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零刻技术数码先锋社区杂志.chm
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