光刻技术
集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。
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基于光电探测器与FPGA的瞬变光辐射探测技术，适用于高精度光信号采集与实时处理场景。方案经过实际工程验证，具备良好的稳定性和响应速度，是光电子系统设计的重要参考。
2026-01-17
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