光刻技术

集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。

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阐述光纤色散与光源, 光脉冲展宽间的关系, 以及克服光纤色散影响的技术, 重点介绍采用色散补偿光纤与可调啁啾光栅补偿器件的实用技术。

2013-11-15 188 光刻技术