磁溅式真空镀膜机自动控制系统

    真空镀膜机是一种直流磁控反应溅射镀膜机， 主要应用于太阳能真空管的制造过程。通过改变靶材与工艺参数， 在工件表面上镀制纯金属膜、 合金膜以及多种金属的化合物膜。三靶镀膜机真空室内有 3种靶材 ， 通过修改工艺运行程序中相应的参数， 可灵活地选择单靶、 两靶和三靶的工作方式 ， 是单靶镀膜机的升级替代产品。目前 ， 三靶镀膜机的控制系统主要有以下几点不足：  

( 1 )功耗过大 ， 一台镀膜机耗能超过 5 0 0 k W ·h ／ d ( 三班制) ；  

( 2 )靶电流不稳定；  

( 3 )油扩散泵抽真空时 ， 油蒸气不可避免地污染镀膜室；  

( 4 )单片机控制系统接线复杂， 故障率较高。  

    低功耗真空镀膜机 自动控制系统采用分子泵替代油扩散泵， 大大降低了控制系统的功耗； 以 P L C和触摸屏为核心， 利用 A ／ D、 D ／ A等模块完成数据采集与控制单元参考值的给定， 提高 了系统 的可靠性； 触摸屏 的可视化操作 ， 体现了以人为本的思想； 靶单元电流闭环控制， 提高了靶电流的稳定性及其精度。  

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