周末随想:功率半导体及内部电场强度


周末下午的时光总是紧张而又充实,这个时候可以静下心来,回顾过去一周的工作思考过去一周的问题,理清过去一周困惑。想到这样的一个问题:功率器件如功率MOSFET的雪崩和内部的电场强度密切相关,功率MOSFET的外延层承受外部的电压,当外加电压使其内部电场强度达到临界电场强强度,碰撞电离加剧从而发生雪崩,那么如何理解功率器件内部的电场强度呢?

 

电场强度的定义是放入电场中某点的电荷所受静电力F和它的电荷量q的比值:

E=F/q


电场强度是矢量,其方向规定为放在该点的正电荷受到的静电力方向,与正电荷受力方向相同,与负电荷受力方向相反。这个定义和功率器件很难建立相关的联系。

 

在匀强电场中,电场强度的定义为沿电场强度方向单位距离的电势降低值: 


图1匀强电场


电场强度的方向为电势降低的方向。

 

在非匀强电场中的某一点,可以认为其周围无限小的距离dl范围内电场强度相等,等效为匀强电场,就有:

E·dl=-dU


2匀强电场


看到这个公式,明白了为什么在功率器件内部,外延层的电场强度对其距离进行积分就可以得到器件的耐压值,无论是三角形电场,还是梯形电场,原理都一样。


图3MOSFET漂移层三角形电场


功率MOSFET耐压


Trench工艺的功率MOSFET外延层EPI内部为三角形电场,那么为什么是三角形电场,而且N-外延层和P体交接处的电场强度最大呢?

 

理解这个问题就必须要用到电场强度第三种定义电场强度等于单位面积内穿过的电场线数目之和。电场线起于正电荷、止于负电荷一根电场线对应着一个单位正电荷和一个单位负电荷。

图4电场线


PN形成耗尽层,靠近PN结N-为正电荷区,P为负电荷区,内部电场由N-指向P,当PN结加反向电压时,耗尽层宽度加长若N为低掺杂,P为高掺杂,且浓度均匀分布,内部电场线如图5所示。


图5:电场线分布


1、PN结面的A位置,所有的电场线都要穿过结面,因此,电场强度最大。


2、N-区域的B位置,穿过的电场线数目减小,因此,电场强度也减小。


3、N-区域的C位置,穿过的电场线数目非常少,因此电场强度也非常小。


4、N-区域的D位置,没有电场线穿过,因此电场强度为0。


N-的掺杂浓度低,N-中耗尽层的距离较大;P掺杂浓度高,P中耗尽层的距离非常小,主要集中在距离结面较小的区域。


N-的掺杂浓度均匀,N-区域中耗尽层距离PN结面越远的位置,正电荷的浓度越低,呈线性降低,所以,N-区域耗尽层的电场强度从PN结面沿耗尽层从最大值线性降低到0,也就是所谓的三角形电场。


三角形电场具体的表达式,可以对上述电场线积分或使用泊松方程推导出来


因此,在功率半导体中,穿过截面的电场线越多、且截面积越小,这个局部的地方电场强度也就越大,这也就解释了在功率MOSFET中,边沿区域以及内部的尖角区域,为什么容易形成电场集中从而成为比较薄弱的环节的原因。