目前开关电源市场上单端反激式的开关电源占有很大的份额,控制环路的设计是反激电源中关键的步骤之一。主要对基于L6561临界(TM)模式下高功率因数(PF)单端反激式开关电源的控制环路设计进行了论述,文中通过对环路中各级的传递函数进行了定性分析和定量计算,进而给出了环路的补偿电路。通过选择合适的相位裕量来保证系统的稳定性,并通过图解法验证了该环路可以使系统具有较好的稳定性。
上传时间: 2013-10-14
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电能表专用6kvac高隔离防静电dc/dc电源模块的详细介绍 wrh 电力仪表专用6kvac高隔离防静电系列模块电源,具有输出稳压自恢复过载短路保护及8kv抗静电保护功能。 输入电压 5, 12, 15, 24 vdc 输出电压 3.3, 5, 9, 12, 15 ,18v, 24 vdc 如需其它规格,请咨询顺源科技公司 电气特性 以下数据除特殊说明外,均是在ta=25° c, 标称输入电压, 额定输出电流时测得. 输入特性 电压范围 +/- 5% 滤波 陶瓷电容 隔离特性 额定电压 6000 vac 泄漏电流 1 ma 电阻 109 ohm
上传时间: 2013-10-23
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推荐给大家一个高精度的电流检测芯片希望你们可以用到
上传时间: 2014-01-19
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在传统正温度系数电流基础上,增加两种不同材料的电阻以实现带隙基准的二阶温度补偿,采用具有反馈偏置的折叠共源共栅运算放大器,使得所设计的带隙基准电路,具有较高的精度和温度稳定性。
上传时间: 2013-10-18
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介绍了一款输入级采用差分放大作倒相的推挽功放, 它的额定输出功率为, 如果提高输出级电源电压, 还可在不变动电路条件下, 把输出功率提高到, 可以满足一些对功率要求比较高的发烧友需要。
上传时间: 2013-11-08
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该系统采用TI 公司专用APFC 整流控制芯片UCC28019 作为控制核心,构成电压外环和电流内环的双环控制,构建了有源功率因数校正(APFC)的高功率因数整流电源。其中,电流内环作用是使网侧交流输入电流跟踪电网电压的波形与相位;电压外环为输出直流电压控制环,外环电压调节器的输出控制内环电流调节器的增益,使输出直流电压稳定。系统采用ATmega16单片机进行监控,完成输出电压的可调以及相关测量参数显示功能,系统通过ATmega16单片机以及其外围器件实现系统功率因数、输出电压、电流的实时测量、人机交互、输出过流保护等功能。实际测试表明,采用UCC28019作为本系统的APFC芯片完全达到或超过题目要求的所有指标。关键词:APFC,UCC28019,过流保护,功率因数
上传时间: 2013-10-14
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超低漏失线性稳压器的技术关键,是基准源模块的设计,在对双极型LDO稳压器进行分析的基础上,提出了对其关键模块基准电压源进行高精度的设计的方案。
上传时间: 2013-12-07
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摘要:采用共源共栅运算放大器作为驱动,设计了一种高电源抑制比和低温度系数的带隙基准电压源电路,并在TSMC0.18Um CMOS工艺下,采用HSPICE进行了仿真.仿真结果表明:在-25耀115益温度范围内电路的温漂系数为9.69伊10-6/益,电源抑制比达到-100dB,电源电压在2.5耀4.5V之间时输出电压Vref的摆动为0.2mV,是一种有效的基准电压实现方法.关键词:带隙基准电压源;电源抑制比;温度系数
上传时间: 2013-11-19
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半导体激光器是一种高功率密度并具有极高量子效率的器件,微小的电流变化将导致光功率输出的极大变化和器件参数(如激射波长、噪声性能、模式跳动)的变化,这些变化直接影响器件的安全工作和应用要求。 本公司设计和生产的半导体激光电源LDD-AAVV-T是连续可调恒流电源,采用了目前国际先进的半导体激光电源方案,选用优质元器件生产。具有输出噪声小、恒流特性好、电流稳定、抗干扰能力强等优点,并具有防过冲、反冲和反浪涌的稳压、恒流双重保护电路,保证激光器的稳定工作和使用寿命。LDD-AAVV型半导体激光电源采用单片机管理和控制,是一种智能化高精度恒流型开关电源,可作为半导体激光打标机的配套电源。针对激光打标设备的特点,电源还可管理水泵、指示光、振镜和Q开关几部分的开关。电源有LCD液晶显示,能提供电源工作的各个参数及其工作状态的显示,具备过压、过流、水温和水压报警功能,实为半导体激光器的理想电源。本电源还可以作为其它高精度恒流源,供设备使用。
上传时间: 2013-11-10
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嵌入式控制系统的MCU一般都需要一个稳定的工作电压才能可靠工作。而设计者多习惯采用线性稳压器件(如78xx系列三端稳压器件)作为电压调节和稳压器件来将较高的直流电压转变MCU所需的工作电压。这种线性稳压电源的线性调整工作方式在工作中会大的“热损失”(其值为V压降×I负荷),其工作效率仅为30%~50%[1]。加之工作在高粉尘等恶劣环境下往往将嵌入式工业控制系统置于密闭容器内的聚集也加剧了MCU的恶劣工况,从而使嵌入式控制系统的稳定性能变得更差。
上传时间: 2013-11-08
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